绘制半导体电路线路图

胶枪是一个不起眼的工具，在许多家庭项目中使用，放下胶粘剂的斑点。现在，一队来自美国海军研究实验室和佐治亚技术研究所的研究人员发明了一种高科技版本的胶枪，以帮助奠定了未来电路组件分子的大小不断缩小的模式。

他们的胶枪，不像其在工作台上的，是没有原油的持有人，加热器和胶水粘的组合。它与热尖的原子力显微镜的悬臂式手臂年底其熔点和安置。

固体材料，如金属针尖，加热，然后转移到正在图案的表面。通过备用的加热和冷却的尖端，可精确控制的物质沉积。

在这项技术的比喻，叫做热浸笔纳米光刻，在显微镜的秘诀是“钢笔”，拿起坚实的版本的“墨”，这是融化表面上写的微小电路图案。

显微镜提示缩小到纳米 - 或一米的十亿 - 是如此的渺小半万，其中内点适合以上的信“一”

一天的技术创建的电路模式可手摇台式电脑配备了成千上万的提示，每个单独控制的阵列，国王威廉P.说，佐治亚理工学院机械工程助理教授，谁是发明人技术。

热浸笔纳米光刻技术是一种称为蘸笔纳米光刻技术在该领域的发展，他说，劳伦斯利弗莫尔国家实验室的生物安全和纳米实验室主任詹姆斯J ·德Yoreo。

传统，蘸笔纳米光刻使用油墨以液态形式，只要是在与表面接触沉积。 “但这项工作提出了严密控制和沉积的可能性，德Yoreo博士说。”

金博士说，在新的设备，没有写作时笔尖的时候，冷，因为油墨是固体。熔化的油墨，在原子力显微镜的技巧或探头加热的专家，博士王，谁是他的显微镜配备了一个特殊的加热元件。

“很像一个电烤箱加热元件加热元件得到热，”他说。 “但速度更快。”在大约百万分之一秒，热探头能顶1250华氏度。

该显微镜的尖端在于掉以轻心基材表面上，像留声机骑手写笔记录中的凹槽，劳埃德J ·惠特曼说，另一种技术的发明者，是表面的纳米科学和传感器技术在海军节的头在华盛顿的研究实验室。当提示存款墨水，图像可以作出的格局。一台计算机读取尖的高度，因为它的踪迹，通常由表面的地形来回扫描，并构造三维图像。

立即使用的技术之一，可修补口罩，惠特曼说，现在在光刻工艺使芯片的价格昂贵的主人，博士。笔可以放置在一个损坏的网站少量的材料，例如。

随着技术的说，生姜，美国华盛顿大学化学系助理教授，大卫说：“我们可以存款，具有高分辨率和高登记材料远远高于熔点比我们先前已能够以纯粹的形式存款， “上蘸笔纳米光刻技术的Zui近一次检讨的共同作者，生姜，博士补充说：“这有可能修复这些非常昂贵的半导体口罩。”

该技术也可能被证明非常有用的纳米材料的快速原型。惠特曼说，“博士”，我们可以测量这些材料立即。

该方法也可用于构建由多个部分组成的三维纳米结构，惠特曼博士说，使用不同的材料具有不同的熔点温度。 “我们也许可以建立相对简单的条件下，这些结构相对简单的仪器，”他说，相反，目前的半导体制造所需的详细的程序。

该项目始于一年半前，当金博士走近博士惠特曼。惠特曼博士说：“”条例草案“已发展为另一个应用程序的加热悬臂，金博士的工作。 “我们做蘸笔纳米光刻技术在我的小组，所以我们决定联手。”

保罗E ·希恩，在海军实验室的化学物理学家和新技术的共同发明人，还合作项目。希恩博士专门在转移，从显微镜的尖端表面分子机制。 “我们的想法只是进展，他说：”工作组的工作。 “也许我们可以使用的提示打开和关闭焊。”

当金博士来到海军实验室做实验，进展迅速。希恩博士说：“我们得到了它的工作在一天之内，”。

在8月30日的“应用物理快报问题，本集团使用显微镜的尖端一个共同的蜡状化合物的结果。惠特曼博士说，他们随后试图其他材料，包括导电和不导电聚合物。

因为这种技术是兼容真空处理，它也可以应用在目前的半导体图案，惠特曼博士说，允许使用浸笔纳米光刻技术在真空环境下，大部分的半导体加工步骤发生。

Zui重要的是，姜博士说，该技术扩展到以前无法进入的成分，具有较高的熔点的金属一样，墨蘸笔纳米光刻。

此外，“你其实可以把你想要的确切位置的表面材料，”他说，“从字面上去和绘图模式的一个分子厚。”